三氟化氮是一 種多用途的工 業 氣 體，其主要 套用 領域和用途 包括：
等 離子 蝕刻 氣 體。在微 電子工 業中，三氟化氮被用作 優良的等 離子 蝕刻 氣 體，特 別是在 對 矽和氮化 矽等材料的 蝕刻 過程中。 與四氟化碳和四氟化碳 與氧 氣的混合 氣 體相比，三氟化氮提供了更高的 蝕刻速率和 選 擇性， 並且 對表面 無污染，在 蝕刻 極薄的材料（如厚度小 於1.5um的 積體電路材料） 時表 現出非常 優 異的性能，且在使用 過程中不 會在被 蝕刻物表面留下任何 殘留物。
反 應室清 潔 劑。三氟化氮 還用作反 應室清 潔 劑， 適 用於清除半 導 體 晶片、平板 螢幕、玻璃 纖 維、光伏 電池等 製造 過程中 產生的 殘留物。
高能化 學 雷射器的氟源。三氟化氮也被用作高能化 學 雷射器的氟源， 這 種 雷射器在H₂-O₂ 與F₂之 間反 應能有效 釋放 雷射 輻射。
製備四氟肼和氟化 劑。可 用於 製備四氟肼和 對氟碳烯 烴 進行氟化 處理。此外，三氟化氮 還可作 為氧化 劑 用於火箭 發射，以及作 為 電子工 業中的等 離子 蝕刻 氣 體和清洗 劑。
總的 來 說，三氟化氮在半 導 體 製造、平板 顯示器、光 纖、光伏 電池等多 個 領域都有 廣泛 套用。