什麼是光刻掩膜版

光刻掩膜版，又稱光罩、光掩膜或掩膜版，是微電子製造過程中用於光刻工藝的圖形母版。

光刻掩膜版由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，並通過曝光將圖形轉印到產品基板上，其功能類似於傳統照相機的「底片」，在半導體製造過程中，光刻掩膜版是光刻步驟中最重要的「道具」之一，它的作用是將設計者的電路圖形透過光罩轉移到平板顯示、半導體所用的ITO玻璃基板或半導體晶圓上，然後才能進行後續製程直至封裝、測試合格後成為最終產品。