哈氏槽，也稱為霍爾槽或梯形槽，是一種用於電鍍液性能測試的實驗設備。它由美國工程師R.O.Hull於1939年發明。哈氏槽的基本形狀類似於一個梯形槽，其設計使得試片兩端距離陽極的距離存在較大差異，並且角部存在禁止效應，導致試片上近陽極和遠陽極端的電流密度存在顯著差異。這種差異使得電流密度的分布呈現線性分布，即從大（近陽極）到小（遠陽極）的變化。通過控制通過哈氏槽的總電流大小，可以觀察到不同電流密度範圍內的鍍層狀況，這對於分析和處理鍍液故障非常有幫助。
哈氏槽實驗有助於控制鍍層質量，確定最佳鍍液配比，以及合適的溫度、電流密度和各種添加劑的用量。它還可以分析鍍液中雜質和成分變化對鍍層的影響，並幫助排查鍍液故障。因此，哈氏槽實驗是電鍍生產、管理和科研中不可或缺的重要實驗工具。