掩膜（MASK）主要有兩層含義：
在計算機圖像處理中，掩膜（Mask）是一種用於選擇、過濾或隱藏圖像中特定區域的技術。掩膜通常是一個與原始圖像具有相同維度的矩陣，用於指示或標識原始圖像中特定區域的像素或區域。通過掩膜，可以控製圖像處理的區域或處理過程，例如，對圖像的特定區域進行遮擋、修改等操作，而不影響其他區域。在計算機視覺和圖像處理中，掩膜是一個非常重要的概念，它可以幫助我們實現更精確的圖像處理和分析。
在半導體製造中，掩膜也用於光刻技術，作為圖形「底片」，在矽片上選定的區域中對一個不透明的圖形模板遮蓋，腐蝕或擴散將只影響選定的區域以外的區域。這是借鑑於PCB製版的過程。
總的來說，掩膜就是一個遮擋板或者模板，用於控製圖像處理的區域或過程，或者用於半導體製造中的光刻技術。