泵浦源在雷射器中扮演著至關重要的角色,其主要作用是提供能量,激勵雷射工作物質(增益介質),將介質內的原子或分子從基態抽運到高能級,從而實現粒子數反轉。
這種反轉是雷射放大的前提條件。泵浦源可以通過不同的方式實現,包括光學激勵(光泵浦)、氣體放電激勵、化學激勵、核能激勵等。在現代雷射技術中,高功率半導體雷射器(LD)是一種常見的泵浦源,它們能夠將電能轉化為光能,有效地提供給增益介質所需的激活能量。
此外,泵浦源還對雷射器的性能、輸出功率、譜寬度、光束質量等方面有重要影響。
泵浦源在雷射器中扮演著至關重要的角色,其主要作用是提供能量,激勵雷射工作物質(增益介質),將介質內的原子或分子從基態抽運到高能級,從而實現粒子數反轉。
這種反轉是雷射放大的前提條件。泵浦源可以通過不同的方式實現,包括光學激勵(光泵浦)、氣體放電激勵、化學激勵、核能激勵等。在現代雷射技術中,高功率半導體雷射器(LD)是一種常見的泵浦源,它們能夠將電能轉化為光能,有效地提供給增益介質所需的激活能量。
此外,泵浦源還對雷射器的性能、輸出功率、譜寬度、光束質量等方面有重要影響。