euv清洗原理

光化學反應

EUV（極紫外光）清洗的原理主要基於光化學反應。

EUV清洗使用172nm的紫外光，這種光能夠將氧分子分解成氧原子和臭氧分子，同時也能打斷有機物中的碳碳鍵和碳氫鍵，使得這些有機物重新組合成二氧化碳和水，通過這種方式，EUV清洗可以去除有機物，保持晶圓表面的清潔，從而提高半導體的質量和產量。