Plasma清洗，也稱為等離子清洗，是一種利用電漿技術對物體表面進行處理的方法，主要用於清潔和改性。電漿是一種物質狀態，不屬於常見的固、液、氣三態，而是通過給氣體施加足夠的能量使之離化形成。
在Plasma清洗過程中，通過高頻電場將氣體分子激發成電漿，這些電漿包含活性氧離子、氧分子、氧原子等活性物種。這些活性物種與物體表面發生反應，有效地去除表面的有機物、無機鹽、金屬氧化物等污染物質。這種清洗技術具有高效、環保、無殘留等優點，被廣泛套用於半導體、液晶、光電等行業的表面清洗處理中。
Plasma清洗的過程通常包括將無機氣體轟擊激發為電子、離子和中性粒子等，這些等離子態氣相物質被吸附在固體表面，與基底表面分子或原子發生化學反應，生成複合基團分子，從而清潔表面。
此外，Plasma清洗也用於改變表面的化學性質和物理性質，例如提高材料的附著力。它適用於各種材料，包括金屬、陶瓷、玻璃、塑膠等，並能處理各種形狀的表面，如平面和曲面。
在電池製造領域，Plasma清洗也發揮著重要作用。例如，在鋰電池的正負極片塗覆前，使用Plasma清洗可以有效去除金屬薄帶上的污漬，為塗覆電極材料做準備。同時，Plasma清洗還套用於電池焊接前和組裝過程中的清潔工作，以提高焊接質量和材料表面的附著力。
總的來說，Plasma清洗是一種多功能的表面處理技術，廣泛套用於各種工業領域，能夠有效清潔和改性各種材料表面。