光折變效應是一種特殊的光感生折射率變化現象，這種效應是由於光電材料中雜質、空位或缺陷充當了電荷的施主或受主，當晶體在光輻照下，光激發電荷進入臨近能帶，電子或空穴在非均勻光照射下再分布而引起材料折射率變化。
光折變效應與光致折射率變化不同，光致折射率變化是有光強引起的瞬態非線性電極化形成的，光強越大，這種折射率變化越強烈。而光折變效應是發生在電光材料中的一種自由光效應，是一種非局域效應，且光強最大處並不是折射率變化最大處。對入射的光強要求較低，光強只會影響光折變過程的速度，甚至用微瓦量級功率的雷射照射晶體，只要時間足夠長也可以產生明顯的折射率變化。
由於在弱光下也可以產生光折變效應，光折變效應在光學信息處理與光學中有很大多的潛在套用，利用光折變效應可以製備各種用途的非線性光學器件，如體全息實時存儲器、光放大器、相位共軛器和空間調製器等。