氣相沉積是一種現代表面工程技術,它通過在氣態下使材料發生物理或化學變化,然後在工件表面形成一層具有特定性能的塗層。
氣相沉積技術可以分為化學氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)兩大類,CVD是通過氣態物質在工件表面發生化學反應,生成固態沉積物;PVD則是通過蒸發或濺射等方式將物質直接沉積在工件表面。這些技術可以套用於模具表面強化、微電子和光電子行業,以形成具有超硬耐磨層或特殊光學、電學性能的塗層。
氣相沉積是一種現代表面工程技術,它通過在氣態下使材料發生物理或化學變化,然後在工件表面形成一層具有特定性能的塗層。
氣相沉積技術可以分為化學氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)兩大類,CVD是通過氣態物質在工件表面發生化學反應,生成固態沉積物;PVD則是通過蒸發或濺射等方式將物質直接沉積在工件表面。這些技術可以套用於模具表面強化、微電子和光電子行業,以形成具有超硬耐磨層或特殊光學、電學性能的塗層。