真空鍍膜是一種在真空中通過蒸發或濺射金屬、合金、化合物等材料，並在基材（如金屬、半導體或絕緣體）表面形成一層薄膜的工藝。
這種工藝通常在高真空的環境下進行，以避免空氣中的雜質干擾薄膜的形成。真空鍍膜技術包括多種方法，如電子束蒸發、分子束外延、離子束濺射、等離子體沉積、射頻磁控濺射等，這些方法可以用於製備各種單層或多層的薄膜。薄膜可以是金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜，它們可以賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，提供優異的電磁屏蔽和導電效果，或者具有出色的阻隔性能。
總的來說，真空鍍膜是真空技術應用的一箇重要領域，廣泛應用於科學研究和實際生產中。