真空狀態
高真空是指壓力範圍在1×10^(-3)到1×10^(-6)帕斯卡(Pa)之間的真空狀態。
高真空的狀態下,氣體分子的數量和間距都表現出極低的狀態,氣體分子的數量已經非常少,幾乎可以達到接近真空的狀態。這種狀態下,氣體分子之間相互碰撞的機會極少,而氣體分子與容器壁之間的碰撞則相對頻繁。高真空主要套用於半導體製造、電視顯像管、電子管、光電管、陰極射線管、X射線管、加速器、質譜儀和電子顯微鏡等需要保持絕對潔淨的行業中,以避免雜質和氣體對產品質量產生影響。
真空狀態
高真空是指壓力範圍在1×10^(-3)到1×10^(-6)帕斯卡(Pa)之間的真空狀態。
高真空的狀態下,氣體分子的數量和間距都表現出極低的狀態,氣體分子的數量已經非常少,幾乎可以達到接近真空的狀態。這種狀態下,氣體分子之間相互碰撞的機會極少,而氣體分子與容器壁之間的碰撞則相對頻繁。高真空主要套用於半導體製造、電視顯像管、電子管、光電管、陰極射線管、X射線管、加速器、質譜儀和電子顯微鏡等需要保持絕對潔淨的行業中,以避免雜質和氣體對產品質量產生影響。