光刻多重曝光

光刻多重曝光是一 種利用光刻 機 將光刻 膠上的 圖案 進行多次曝光的技 術。每次曝光 後，光刻 膠上 會形成部分曝光的 圖案，然 後通 過旋 轉、平移或 縮放 樣本，再次 進行曝光。 重複 這 個 過程可以 將不同的 圖案 疊加在一起， 從而在 一個步 驟中 製造出非常 複雜的 結 構。 這 種技 術具有更高的 解析度和更好的 結 構 控制能力，可以 實 現更高的 製造精度和更高的 晶片密度，同 時也可以 節省 製造成本和提高生 產效率。