光刻掩膜板或光罩
光刻板，也稱爲光刻掩膜板或光罩，是集成電路製造中的關鍵組件。它的主要作用是在光照作用下，通過光致抗蝕劑（光刻膠）將掩膜版上的圖形轉移到基片上。光刻板的製作通常涉及在石英板上鍍上呈某種圖案排列的鉻金屬，其中石英透光而金屬不透光。當紫外光透過光刻板照射到光刻膠上時，被照射的地方化學性質會發生變化，未被照射的地方則保持不變。通過顯影液處理後，性質變化的部分會被溶解去除，從而暴露出下面的材料，這部分材料在刻蝕液中被刻蝕掉，形成有效的電路圖形。
光刻板的設計和製作過程非常精密，涉及到圖形標識、結構、保護膜的功能和材質、保護膜厚度對成像性能的影響、對準標記的設計以及光刻版設計流程等多箇方面。