光刻掩模版、光罩或掩模版
光掩模，也 稱 為光刻掩模版、光罩或掩模版，是微 電子 製造中光刻工 藝所使用的 關 鍵部件。
光掩模的主要作用是利用已 設 計好的 圖案，通 過透光 與非透光方式 進行 電路 圖形的 複製。它由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜 圖形， 並通 過曝光 將 圖形 轉印到 產品基板上。光掩模的功能 類 似於 傳 統相 機的 「底片 」，在光刻 機、光刻 膠的配合下， 將光掩模上已 設 計好的 圖案，通 過 顯影、刻 蝕、 脫模、清洗等 環 節 進行 圖形 複製， 從而 實 現批量生 產。
光掩模在 積體電路（IC）、液晶 顯示器（LCD）、有 機 發光 二極體（OLED）和印刷 電路板（PCB）等多 個微 電子行 業中都有 廣泛 套用。