光掩模板（Photomask）在半 導 體 製造和微 電子行 業中扮演 著至 關重要的角色，其主要用途 包括：
製作微 電子器件。光掩模板 用於在 矽晶 圓或其他基板上 製作精 細的 電路 圖案， 這些 圖案 隨 後被 轉印到 產品基片上， 從而形成 電子元件。
保 護 電路特定 區域。光掩模板通 過隔 離和保 護 電路中的特定 區域， 實 現 對 電路的 控制和 調 節。
承 載 圖形 設 計和工 藝技 術信息。光掩模板作 為 圖形 「底片 」，是承 載 設 計 圖形和工 藝技 術等 智慧財產權信息的 載 體。
光掩模板的 製作材料通常是高折射率的石英玻璃或 蘇打玻璃， 這些材料具有高光 學透 過率和低 熱膨 脹率， 適合在光刻工 藝中使用。光掩模板上的 圖案通 過曝光、 顯影、刻 蝕等工 藝 過程被 複製到 產品基片上， 從而 實 現批量生 產。