光掩膜版或光刻掩膜版
光罩，也被 稱 為光掩膜版或光刻掩膜版，是微 納加工技 術和半 導 體 製造中 用於光刻工 藝的 關 鍵部件。
光罩是在薄膜、 塑膠或玻璃基 體材料上 製作的各 種功能 圖形， 並精 確定位以便 用於光致抗 蝕 劑 塗 層的 選 擇性曝光。在半 導 體 製造中，光罩的作用 類 似於照相底片，它承 載 著 電路 設 計 圖案， 並 將 這些 圖案投影到 矽片上， 從而 製造出 積體電路。光罩通常由石英等材料 製成，表面 鍍有金 屬 鉻和其他感光材料，上面有 設 計好的 電路 圖形。光刻 機通 過光 線透 過光罩， 將光罩上的 圖案精 確 複製到晶 圓上， 這 個 過程 對於 確定 積體電路的精度和 複雜性至 關重要。