解析氫譜主要依賴於化學位移、峯的強度（面積）、峯的裂分數以及偶合常數等信息。具體步驟如下：
化學位移。它反映了氫原子所處的化學環境，即其周圍的原子或基團的電子環境。不同的化學環境會導致氫原子受到不同的磁場效應，從而在不同位置產生不同的峯。
峯的強度（面積）。它與引起該吸收的氫核數目成正比，反映了氫原子的數量。積分曲線的總高度相當於氫核的總個數，而每一相鄰水平臺階高度則取決於引起該吸收峯的氫核數目。
峯的裂分數。它反映了相鄰碳原子上質子數，可以幫助確定分子中氫原子的連接方式。
偶合常數(J)。它有助於確定化合物的構型。
通過這些信息，可以確定分子中氫原子的化學環境，從而推測出分子的結構和化學性質。例如，如果一箇分子中存在不同位置的氫原子，它們將產生不同位置的峯，提供了分子的結構信息。此外，通過測量峯的相對強度，可以估計氫原子的數量，進一步揭示分子的組成。
在解析氫譜時，還需要考慮實驗條件和儀器性能的影響，以及結合已知的化合物結構和化學知識進行分析。對於複雜的譜圖，可能需要進行多次實驗並對譜圖進行平均處理以得到更準確的結果。