溼製程設備是指在製造半導體器件、印刷電路板、液晶顯示玻璃板等過程中，採用溼法處理方法的設備。溼法處理是一種在液態環境下進行化學反應的技術，主要用於清洗、蝕刻、蝕刻後清洗等製程中。溼製程設備包括電鍍、清洗、溼法刻蝕等，能夠提高生產效率、降低能耗，並具有較高的自動化程度，對於提高產品質量和保障生產安全具有重要作用。在溼法製程設備中，攪拌器、過濾器、離心機等設備被廣泛應用，它們主要用於各種溼法生產過程中的物料處理、反應、分離和乾燥等步驟。
溼製程設備是指在製造半導體器件、印刷電路板、液晶顯示玻璃板等過程中，採用溼法處理方法的設備。溼法處理是一種在液態環境下進行化學反應的技術，主要用於清洗、蝕刻、蝕刻後清洗等製程中。溼製程設備包括電鍍、清洗、溼法刻蝕等，能夠提高生產效率、降低能耗，並具有較高的自動化程度，對於提高產品質量和保障生產安全具有重要作用。在溼法製程設備中，攪拌器、過濾器、離心機等設備被廣泛應用，它們主要用於各種溼法生產過程中的物料處理、反應、分離和乾燥等步驟。