真空離子鍍是一種物理氣相沉積法中的表面鍍覆技術，主要特徵是在蒸發源與被鍍工件之間存在一箇低壓等離子區，當蒸發分子（或原子）通過時，產生部分電離，從而增加粒子到達工件的速度、能量及碰撞幾率，使沉積效率、膜層與工件的結合力及膜層質量有較大幅度的提高。
真空離子鍍膜技術是在真空環境中，通過蒸發源或濺射靶使膜材蒸發或濺射，其中一些粒子在氣體放電空間中電離成金屬離子，並在電場作用下沉積到基體上，形成薄膜的過程。這種技術可以製備各種耐磨、耐蝕及裝飾性膜層，以及光學、磁性、微電子、超導等功能薄膜。真空離子鍍適用於多種材料，如ABS料、PC料等塑料產品，能夠提供薄而附着力強的表面鍍層，常用於高檔產品的功能性鍍層。