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臭氧空洞形成原因

臭氧空洞形成的主要原因是氟氯烴(CFCs)等化學物質的排放。

這類物質在大氣中積累,並逐漸飄移到平流層,在特定條件下發生光化學反應,產生氯和溴自由基,這些自由基會破壞臭氧分子,導致臭氧層損耗。

臭氧是一種由三個氧原子組成的氣體,它集中在地球表面的上層大氣中,形成了一層保護人類的臭氧層,吸收了大部分對生物有害的紫外線輻射。氟氯烴類化學物質通常用於製冷、發泡劑、清洗劑等產品中,由於其化學性質穩定,它們能在大氣中長時間存在,最終導致臭氧層受損。

此外,氮氧化物和鹵化代烴等空氣污染物也會對臭氧層造成破壞。這些污染物通過擴散和侵蝕作用影響臭氧層,導致其破壞和減少。