薄膜乾涉技術是一種利用薄膜表面反射和透射光線相互乾涉來測量薄膜厚度的有效方法。其原理是，當光線照射在薄膜表面時，從薄膜上表面反射和下表面透射的光線會在空間中形成乾涉條紋，這些條紋的間距與薄膜厚度有關。通過測量乾涉條紋的間距，並結合入射角度和折射率等參數，可以計算出薄膜的厚度。
薄膜乾涉技術可以測量的薄膜厚度範圍大約在0.1納米到幾毫米之間。這種技術的優點包括高準確性、不破壞樣品、測量速度快等，被廣泛套用於材料科學、化學、物理、電子等領域。然而，它也存在一些局限性，例如對薄膜的材料和厚度有一定的限制，僅能測量光學常數較小的透明薄膜。
在實際套用中，薄膜的厚度會影響乾涉現象的特性。例如，當薄膜厚度增加時，乾涉條紋可能會變得模糊甚至消失，這種現象稱為紅移。此外，入射光束的發散角和入射角也會影響乾涉條紋的位置和測量精度。
總結來說，薄膜乾涉技術是一種重要的薄膜厚度測量方法，其準確性和適用性取決於多種因素，包括薄膜的材料、厚度、入射光特性等。通過合理選擇實驗條件和分析方法，可以有效提高測量的準確性。