高純濺射靶材是什麼

高純度的材料

高純濺射靶材是一種高純度的材料，主要用於高科技領域，如半導體、光電子材料、電子元器件製造等。

這種材料在真空環境下經過高溫熔鍊和冷卻處理製成，具有高純度、高密度、均一性和微觀組織結構，通常呈片狀或圓柱狀。高純濺射靶材的主要成分爲金屬元素，如鋁、鈦、銅、鉭等，其純度通常在99.9%至99.9999%之間，這種材料通過物理氣相沉積(PVD)技術製備薄膜，廣泛應用於太陽能電池、平面顯示器、LED、集成電路等製造過程中。