boe溶液成分

BOE溶液是一種用於蝕刻二氧化矽或氮化矽薄膜的化學試劑，主要由49%的氫氟酸(HF)和40%的氟化銨(NH4F)水溶液按1:6的比例混合而成。

這種溶液用於微電子加工過程中，氫氟酸是其主要成分，用於去除氧化矽，但蝕刻速率過快，且會剝離光刻技術中使用的光致抗蝕劑，而氟化銨的加入減緩了蝕刻速率，並有助於避免光致抗蝕劑從襯底上剝離。此外，氟化銨還提供了更可控的蝕刻速率，在這種溶液中，氟化銨完全離解，提供大量的游離離子，這些離子與未離解的氫氟酸反應，形成HF2-離子，從而有助於控制蝕刻過程。