化學氣相沉積法
CVD法,即化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition),是一種利用氣態或蒸汽態的物質在氣相或氣固界面上發生化學反應,生成固態沉積物的工藝過程。
這種技術主要用於製造各種薄膜材料,包括但不限於半導體、金屬、陶瓷和其他無機材料,以及一些有機材料。在CVD過程中,通常會將含有構成薄膜元素的氣態反應劑引入反應室,在加熱的基體表面發生化學反應,從而生成固態薄膜。CVD技術廣泛套用於超大規模積體電路、平板顯示、太陽能電池等領域,是一種重要的材料製備和加工技術。
化學氣相沉積法
CVD法,即化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition),是一種利用氣態或蒸汽態的物質在氣相或氣固界面上發生化學反應,生成固態沉積物的工藝過程。
這種技術主要用於製造各種薄膜材料,包括但不限於半導體、金屬、陶瓷和其他無機材料,以及一些有機材料。在CVD過程中,通常會將含有構成薄膜元素的氣態反應劑引入反應室,在加熱的基體表面發生化學反應,從而生成固態薄膜。CVD技術廣泛套用於超大規模積體電路、平板顯示、太陽能電池等領域,是一種重要的材料製備和加工技術。