PVD，即物理氣相沉積，是一種在真空條件下，通過物理方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜製備技術。PVD技術主要包括真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜三種類型。這些技術利用大電流電弧放電技術或氣體放電使靶材蒸發並電離，然後在電場作用下，使被蒸發物質或其反應產物沉積在工件上形成薄膜。
PVD鍍膜的優點包括膜層與工件表面的結合力大、膜層硬度高、耐磨性和耐腐蝕性好，以及性能穩定。此外，PVD鍍膜可以鍍制的膜層種類多，顏色也多，且不會產生有毒或污染的物質。濺射鍍膜工藝具有可重複性和鍍膜厚度可控的特點，而蒸發鍍膜則工藝簡單、操作方便、成膜速度快。
PVD塗層是在基板表面上使用PVD過程沉積薄層材料，形成均勻的塗層。源材料可以是金屬、合金、陶瓷等，具體取決於最終產品。PVD塗層因其高硬度、耐磨性和低摩擦特性，適用於汽車、航空航天和醫療行業等領域。
PVD技術也用於手錶外殼的強化加工處理，通過在外層鍍膜來提升手錶外殼的表面硬度、強度和耐磨蝕性，進而提高手錶的耐用性。