沉積薄膜的材料
PVD靶材是物理氣相沉積技術（Physical Vapor Deposition）中用於沉積薄膜的材料。它們主要由金屬或其他合金組成，具有高硬度、高強度、高耐磨性和良好的耐腐蝕性。PVD靶材在膜層質量、附著力和使用壽命方面優於化學鍍膜，並且具有環保節能的優點。
PVD靶材的種類繁多，按形狀可分為長靶、方靶、圓靶等；按化學成分可分為金屬靶材（如純金屬鋁、鈦、銅、鉭等）、合金靶材（如鎳鉻合金、鎳鈷合金等）、陶瓷化合物靶材（如氧化物、矽化物、碳化物、硫化物等）等。它們在不同的套用領域中發揮著關鍵作用，例如在平面顯示器中常用的高純度鋁靶材、銅靶材、鉬靶材，以及在太陽能電池中常用的高純度鋁靶材、銅靶材、鉬靶材、鉻靶材等。
PVD技術可以在真空條件下通過物理方法將材料從固態轉換為氣態，然後在基板上凝結形成均勻、緊密的薄膜。這種技術適用於要求嚴格的光學和微電子領域，以及工具製造、裝飾等領域。
綜上所述，PVD靶材是物理氣相沉積技術中的核心材料，對於提高薄膜性能和降低成本具有重要作用。