QDR清洗機是一款專門用於2寸到12寸晶圓表面清洗的晶片清洗設備,適用於晶片生產過程中的客戶。其工作原理是在晶圓生產完成後,使用去離子水(DIW)或超純水(UPW)對晶圓進行表面清洗。該設備具備以下功能:
補液
快排
鼓泡
溢流
噴淋
此外,QDR清洗機還支持通過PLC進行人機互動,方便用戶操作和控制設備。
QDR清洗機是一款專門用於2寸到12寸晶圓表面清洗的晶片清洗設備,適用於晶片生產過程中的客戶。其工作原理是在晶圓生產完成後,使用去離子水(DIW)或超純水(UPW)對晶圓進行表面清洗。該設備具備以下功能:
補液
快排
鼓泡
溢流
噴淋
此外,QDR清洗機還支持通過PLC進行人機互動,方便用戶操作和控制設備。