X射線光電子能譜技術（XPS）是一種先進的分析技術，廣泛套用於電子材料與元器件的顯微分析中。它能夠準確地測量原子的內層電子束縛能及其化學位移，從而提供關於分子結構、原子價態、元素組成和含量、化學狀態以及化學鍵的信息。XPS技術對樣品的破壞性非常小，尤其適用於有機材料和高分子材料的分析。
XPS的主要功能包括定性分析和定量分析。定性分析是通過分析光電子的動能來確定表面存在的元素，以及觀測化學位移來研究元素的化學狀態。定量分析則是通過分析具有某種能量的光電子的強度來確定元素在表面的含量。此外，XPS還可以結合離子濺射進行深度分析，提供材料表面幾個納米厚度層的狀態信息。
XPS技術的套用非常廣泛，不僅適用於材料開發套用研究和物理理論探討等學術研究領域，也在半導體、鍍膜材料及塗層工藝控制、多層結構納米功能材料開發等工業領域有廣泛的套用。
需要注意的是，XPS技術無法有效檢測氫和氦元素，這是因為它們的光電離截面小，信號弱，以及它們沒有內層電子。儘管存在這些限制，XPS仍然是一種非常重要的表面分析方法，為多種領域的研究和套用提供了強大的支持。