X射線光電子能譜(XPS)是一種表面分析技術，其常規測試的分析深度通常在10nm左右，可以分析樣品表面元素及其化學態信息。然而，XPS的測量分析深度實際上取決於多種因素，包括逸出光電子的動能和樣品的類型。一般來說，對於金屬材料，XPS的分析深度可以達到9nm，而對於無機材料，這個深度可以達到12nm。對於有機物和高分子材料，XPS的分析深度通常在4-10 nm之間。
此外，XPS測試屬於微區測試，常規光斑是650um，檢測深度小於10nm，適合檢測塊體或者薄膜等樣品。如果樣品表面分布不均勻，就會導致測試結果出現差異。對於特殊材料或需要進行深度分析的樣品，可以通過刻蝕處理來保證測試效果。
總的來說，XPS的分析深度受到多種因素的影響，包括樣品的類型和測試條件。在實際套用中，需要根據具體的樣品和實驗需求來選擇合適的測試條件和方法。