什麼是掩模版

掩模版，又稱光掩模版、光罩等，是微電子製造過程中的關鍵耗材，主要用於光刻工藝。

掩模版是微電子製造過程中的圖形轉移母版，承載圖形設計和工藝技術等智慧財產權信息，其功能類似於傳統照相機的底片。在光刻環節，掩模版上的設計圖案通過曝光和顯影等工序轉移到下遊行業的基板或晶圓上，實現批量複製生產。掩模版的性能直接決定了光刻工藝的質量，其精度和質量水平會直接影響最終下游製品的良率。掩模版主要由基板和遮光膜兩個部分組成，基板分為樹脂基板和玻璃基板，而遮光膜分為乳膠和硬質遮光膜兩種。