濺射靶材是用於物理氣相沉積(PVD)技術中的一種材料。
在濺射過程中，離子源產生的離子在真空中經過加速和聚集，形成高能量的離子束流，然後轟擊固體（即濺射靶材）表面。離子與靶材表面的原子發生動能交換，使得靶材表面的原子獲得足夠的能量離開靶材，並沉積在基底材料上，形成薄膜。
濺射靶材的組成材料多種多樣，包括金屬、無機化合物、複合物等，可以根據套用需求選擇不同的材料。這些靶材通常具有特定的幾何形狀，如圓片狀或長方體板狀。濺射技術廣泛套用於製備導電膜、絕緣膜、裝飾膜、超硬膜、潤滑膜、磁性膜等功能薄膜，特別是在超大規模積體電路製造中，由於可以保持組成成分的穩定性，濺射鍍膜成為了一種主流方法。