縱模和橫模是雷射模式的重要分類，具體如下：
縱模。是指沿著雷射腔軸線方向上的雷射光場分布，它與雷射的頻率（波長）緊密相關。在理論上，雷射腔內可以產生無數個等間距頻率的光，但由於增益介質只對特定頻率的光產生最大增益，其他頻率的光被抑制，因此雷射器通常只輸出一個特定頻率的雷射。縱模表示雷射震盪的頻率數，表徵雷射的單色性好壞，單一縱模的單色性最好。
橫模。是指垂直於雷射傳播方向的橫截面上的雷射光場分布，它決定了雷射光斑上的能量分布情況。橫模可以從雷射束橫截面上的光強分布看出，例如基模在橫截面上形成一個光斑，而高階模則可能有多個光斑。橫模影響雷射的方向性，不同的橫模其光場分布是不一樣的，高階橫模的發散角大於基橫模。
簡而言之，縱模與雷射的頻率和單色性相關，而橫模則與雷射光斑的能量分布和方向性相關。