離子注入是一種將離子束射入固體材料中的技術。
這項技術通常用於摻雜半導體材料,在真空中,通過加速要摻雜的元素的離子到高速度,然後照射(注入)到固體材料中,離子在固體材料中減速並最終停留在所選定的區域,形成一箇具有特殊性質的表面層,即注入層,這種方法可以精確地控制雜質的分佈和濃度,從而改變材料的性能。
離子注入是一種將離子束射入固體材料中的技術。
這項技術通常用於摻雜半導體材料,在真空中,通過加速要摻雜的元素的離子到高速度,然後照射(注入)到固體材料中,離子在固體材料中減速並最終停留在所選定的區域,形成一箇具有特殊性質的表面層,即注入層,這種方法可以精確地控制雜質的分佈和濃度,從而改變材料的性能。