哈林槽(Haring cell)是一種用於測定鍍金液的均一電著性的設備。在哈林槽中，陰極板置於兩端，而可移動的陽極板置於中間任何定點，以此來測定陽極到兩陰極的電流分配，並比較金屬析出量之比。這種設計可以幫助測定電流分配比(P)與金屬析出比(M)之間的關係，並以百分比表示均一電著性(T)。均一電著性良好時為正，不良時為負。通常適用於Field公式來計算均一電著性。
哈林槽的原始尺寸為長度60cm、寬度10cm、高度10cm，鍍液量為6000cc。但隨著技術的改進，出現了容量更小的改良型哈林試驗槽，如1500cc、2000cc等，以便於節省空間、方便槽的清洗和鍍液分配及淨化等操作。
在電鍍過程中，提高均一電著性可以獲得更平整的鍍膜，提升產品的美觀及附加價值。同時，這也有助於節省經費並擴大產量。例如，在電路板鍍金手指的生產中，如果使用哈林槽試驗來提升鍍液的電著均一性，可以使高低電流區域之鍍膜厚度更加平均，從而縮短電鍍時間、擴大產量並節省金屬鹽的消耗。