掩模,也稱為掩膜或模板,是一種用於數字圖像處理的工具,其主要功能是用特定的圖像、圖形或物體遮擋待處理的圖像的某些部分,從而控製圖像處理的區域或處理過程。
在半導體製造中,掩模在光刻技術中使用,用於在矽片上選定的區域中遮擋不透明的圖形模板,只允許下面的腐蝕或擴散過程影響選定的區域以外的區域。掩模可以由二進制圖像組成,其中1值區域表示被處理的部分,而0值區域表示被禁止或不被處理的區域。
掩模,也稱為掩膜或模板,是一種用於數字圖像處理的工具,其主要功能是用特定的圖像、圖形或物體遮擋待處理的圖像的某些部分,從而控製圖像處理的區域或處理過程。
在半導體製造中,掩模在光刻技術中使用,用於在矽片上選定的區域中遮擋不透明的圖形模板,只允許下面的腐蝕或擴散過程影響選定的區域以外的區域。掩模可以由二進制圖像組成,其中1值區域表示被處理的部分,而0值區域表示被禁止或不被處理的區域。