材料的表徵方法可以分為以下幾類：
顯微鏡技術。包括透射電子顯微鏡(TEM)、掃描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)、掃描隧道顯微鏡(STM)，這些技術能夠在納米尺度和原子水平上觀察材料的形貌和結構。
光譜技術。例如X射線光電子能譜(XPS)、拉曼光譜(Raman)、傅立葉變換紅外光譜(FT-IR)、紫外-可見光譜(UV-vis)，這些技術主要用於分析材料的化學成分、鍵合特性以及電子態。
衍射技術。如X射線衍射(XRD)，用於分析材料的晶體結構、點陣常數和相組成。
質譜技術。包括核磁共振(NMR)和電感耦合電漿質譜儀(ICP-MS)，這些技術主要用於分析材料的分子結構和元素成分。
微區分析技術。如電子能量損失譜儀(EELS)和掃描電鏡能譜儀(EDS)，用於定性定量分析樣品中的元素成分。
這些表徵方法的選擇取決於所需分析的材料類型、分析的深度和精度要求。