真空鍍是什麼

表面處理技術

真空鍍是一種表面處理技術，主要用於在真空中通過加熱金屬或非金屬材料使其蒸發，並在真空條件下凝結在待處理物體（如金屬、半導體或絕緣體）的表面，形成薄膜。

真空鍍包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍等不同方法，這種技術可以在極短的時間內沉積非常薄的金屬或非金屬薄膜，具有速度快和附着力好的特點，但可操作的金屬類型相對較少，通常用於高檔產品的功能性鍍層，由於其成本較高，真空鍍常用於需要突出其表面質感和性能的產品上。