金靶材是一種用於物理氣相沉積（PVD）工藝的材料，它可以通過高速荷能粒子的轟擊來製備薄膜。金靶材的套用範圍非常廣泛，包括但不限於：
顯示屏製造：金靶材用於製備顯示屏的阻擋層或調色層，以提高顯示效果和耐用性。
裝飾和電池封裝：在筆記本電腦的裝飾層和電池的封裝中，金靶材可以提供美觀和保護作用。
光學鍍膜：金靶材用於製備高質量的金屬反射鏡、濾光器、雷射器等光學元件，具有良好的化學穩定性和光學性能。
生物醫學檢測：金靶材在生物醫學檢測中起著重要作用，利用金納米顆粒的表面電漿共振效應，可以實現螢光標記、分子探針和生物感測器等功能。
半導體領域：在半導體材料的製備過程中，金靶材用於形成多層結構的膜層，以滿足化學、電學、光學等方面的特殊需求。
電子領域：金靶材套用於高解析度顯示器、觸控螢幕、LED等電子元件的製備，保證薄膜具有良好的電學性能和光學性能，從而提高元件的穩定性和性能。
光電領域：金靶材可以用於製備金屬化反射鏡和高反射膜等，提高光電設備的光學性能。
金靶材的形狀通常為平面或異型，包括圓形和長方形等，它們在濺射鍍膜過程中被使用，以製備具有特定功能的金屬層。金靶材的高純度和穩定性使其成為這些套用領域的理想選擇。