製備靶材的主要方法有熔煉法和粉末冶金法。熔煉法包括真空感應熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等，這些方法適用於製備大型、成分均勻的靶材，但其缺點是難以獲得成分均勻的靶材，特別是當兩種或兩種以上金屬的熔點和密度差異較大時。
粉末冶金法是一種常見的製備靶材的方法，它包括將合金原料熔煉、澆注成鑄錠後粉碎，然後將粉末經過等靜壓成形和高溫燒結等工藝製成靶材。這種方法可以製備成分均勻的靶材，但通常密度較低，雜質含量較高。
除了上述兩種主要方法外，還可以採用化學氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)和電化學沉積等方法來製備靶材。這些方法適用於特定類型或具有特殊要求的靶材，如氧化物和氮化物靶材的製備。
在製備過程中，可能還需要進行表面處理、剪裁、精細加工和質量檢測等步驟，以確保靶材的質量和適用性。