一種特定的真空狀態
高真空指的是一種特定的真空狀態，其特徵是氣壓非常低，氣體分子之間的碰撞極少，且氣體分子與容器壁之間的碰撞較為頻繁。
高真空的狀態下，氣壓通常低於1.333×10^-1Pa至1.333×10^-6Pa，這種環境下，氣體分子的自由程很大，分子的運動方向沒有明顯的規律，高真空廣泛套用於電子、光學、真空冶金、真空製備等領域，提供高度純淨、無雜質、無水汽、無氣味和無油脂的環境。
一種特定的真空狀態
高真空指的是一種特定的真空狀態，其特徵是氣壓非常低，氣體分子之間的碰撞極少，且氣體分子與容器壁之間的碰撞較為頻繁。
高真空的狀態下，氣壓通常低於1.333×10^-1Pa至1.333×10^-6Pa，這種環境下，氣體分子的自由程很大，分子的運動方向沒有明顯的規律，高真空廣泛套用於電子、光學、真空冶金、真空製備等領域，提供高度純淨、無雜質、無水汽、無氣味和無油脂的環境。