靶材是一種特殊的材料,主要用於各種材料沉積工藝中,如電鍍、磁控濺射、化學氣相沉積等。
這些工藝中,靶材作為材料源,被固定在設備內部,當高能粒子(如離子、電子等)轟擊靶材表面時,靶材的原子或分子被噴射或沉積到基底上,形成薄膜。靶材可以由金屬、合金、陶瓷等材料製成,其純度和製備質量對所製備薄膜的質量和性能有直接影響。在半導體、微電子、顯示器、存儲器等行業中廣泛套用。
靶材是一種特殊的材料,主要用於各種材料沉積工藝中,如電鍍、磁控濺射、化學氣相沉積等。
這些工藝中,靶材作為材料源,被固定在設備內部,當高能粒子(如離子、電子等)轟擊靶材表面時,靶材的原子或分子被噴射或沉積到基底上,形成薄膜。靶材可以由金屬、合金、陶瓷等材料製成,其純度和製備質量對所製備薄膜的質量和性能有直接影響。在半導體、微電子、顯示器、存儲器等行業中廣泛套用。