什麼是真空鍍膜設備

真空鍍膜設備是一種在極高真空環境下，利用物理或化學方法，通過蒸發或濺射技術，在物體表面形成薄膜的裝置。

這種設備的主要組成部分包括真空室、加熱系統、電子束或離子源、鍍膜材料和控制系統等。通過控制真空室中的氣體成分、溫度、電壓等參數，可以在樣品表面均勻地塗上薄膜，實現高精度和高效率的鍍膜過程。真空鍍膜設備廣泛應用於光學、電子、材料等領域，對於製造高性能電子產品、光學器件、裝飾材料等具有重要意義。