石英晶片的清洗方法主要包括以下幾種：
原理清洗：將石英晶片浸泡在70 ~ 80℃的去離子水溶液中，時間不超過10分鐘，以清除大部分表面雜質。這種方法適用於簡單的清洗，但不能完全去除較強的碳水化合物和金屬離子。
機械清洗：使用洗滌機、超音波清洗機等設備去除石英晶片表面的污垢。這種方法適用於表面附著較多雜質的石英晶片，但無法去除化學反應性強的污垢。
化學清洗：使用表面活性劑、鹼性或酸性溶液等化學物質來清除石英晶片表面的污垢。這種方法可以清除不同程度的鐵、鎂、鈣等離子，但會對石英晶片的表面產生一定影響，因此需要注意清洗液的濃度、時間和溫度等因素。
壓電石英晶片清洗方法：包括去砂超洗、配製浸泡液、浸泡、去除浸泡液、純水超洗、控水甩乾、檢驗潔淨度等步驟。使用檸檬酸配製的浸泡液代替鹽酸或硫酸，不涉及危險化學品，消除安全隱患，使清洗後的石英晶片潔淨無水漬、污漬。
以上方法可以根據具體情況和需求選擇使用，以達到最佳的清洗效果。