靶材的成分多種多樣，主要包括金屬靶材、半導體靶材、氧化物靶材、氮化物靶材、碳化物靶材等。金屬靶材如銅、鋁、鎢、鎳、鈦、鐵、鋅等，因其導電、導熱等物理性質而被廣泛套用。半導體靶材主要包括矽、鍺、硒化銦、銻化銦、氮化銦等，用於LED、半導體雷射器等領域。氧化物靶材如氧化鋅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鋁等，具有高的化學穩定性和機械強度，套用於醫療設備、薄膜潛能等領域。氮化物靶材如氮化鋁、氮化硼、氮化鈦等，具有極高的硬度、高的熱導率和化學穩定性，在太陽能電池、半導體器件、LED等領域有著重要的套用。碳化物靶材如碳化矽、碳化鎢、碳化鈦等，具有高的阻化溫度、高的硬度、高的化學惰性和高的熱導率，在高溫和高壓等惡劣環境下有著廣泛的套用。此外，還有合金靶材如鎳鉻合金、鎳鈷合金等，可以通過改變元素的比例來調整薄膜的性能。