EMMI（Emission Microscope）是一種用於積體電路（IC）失效分析的先進技術，它利用微光顯微鏡來檢測半導體器件中的微量光子，從而定位缺陷和失效點。EMMI的工作原理基於半導體材料中的載流子複合和熱載流子效應，當電子和空穴複合或熱載流子釋放多餘動能時，會產生光子，這些光子被EMMI設備的高增益相機或探測器捕捉，通過圖像處理技術，可以定位發光點的位置，實現對失效點的精確識別。
EMMI技術可以檢測到各種類型的缺陷，包括但不限於接面漏電、氧化層崩潰、靜電放電破壞、閂鎖效應、撞擊游離、順向偏壓及在飽和區域操作的電晶體等，其能夠提高晶片製造和IC設計的質量和可靠性。