正性光刻膠，也稱爲正膠，是一種在微電子製造過程中用於形成圖形化結構的特殊光刻膠。
這種光刻膠的主要成分包括感光樹脂、增感劑（最常見的是重氮萘醌DNQ）和溶劑。在曝光過程中，感光劑DNQ吸收能量引起光化學分解，轉變爲可溶於顯影液的物質，而未感光的部分則不溶解，因此，經過曝光和顯影后，曝光區域溶解而未曝光區域保留下來，形成與掩膜相同的圖像。正性光刻膠具有良好的對比度和分辨率，適用於微結構如線、點和孔徑等的製造。
正性光刻膠，也稱爲正膠，是一種在微電子製造過程中用於形成圖形化結構的特殊光刻膠。
這種光刻膠的主要成分包括感光樹脂、增感劑（最常見的是重氮萘醌DNQ）和溶劑。在曝光過程中，感光劑DNQ吸收能量引起光化學分解，轉變爲可溶於顯影液的物質，而未感光的部分則不溶解，因此，經過曝光和顯影后，曝光區域溶解而未曝光區域保留下來，形成與掩膜相同的圖像。正性光刻膠具有良好的對比度和分辨率，適用於微結構如線、點和孔徑等的製造。