配位掩蔽法是一種在化學分析中常用的技術，主要用於消除或減少干擾離子對分析反應的影響。具體來說，配位掩蔽法通過加入一種掩蔽劑，該掩蔽劑能與干擾離子形成非常穩定的配合物，從而阻止這些干擾離子與被測物質或試劑發生反應。這樣，就可以更準確地測量被分析物的濃度。
例如，在測定水中鈣離子（Ca2+）和鎂離子（Mg2+）的含量時，如果存在鐵離子（Fe3+）和鋁離子（Al3+），這些離子會干擾測定。此時，可以加入三乙醇胺作為掩蔽劑，它與Fe3+和Al3+形成穩定的配合物，從而消除這兩種離子對Ca2+和Mg2+測定的干擾。這種方法特別適用於使用EDTA滴定過程中，因為EDTA與某些金屬離子反應時，會受到其他金屬離子的干擾。
在選擇掩蔽劑時，需要考慮多種因素，如掩蔽劑的用量、反應的酸度範圍、形成配合物的顏色和穩定性，以及加入的試劑是否會影響到被檢測的離子等。此外，配位掩蔽法與其他掩蔽技術如沉澱掩蔽法和氧化還原掩蔽法不同，後者分別通過形成沉澱和改變價態來消除干擾。